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“韬定律”本质上是在先进制程受限的现实下,试图通过 DUV 多重曝光、架构优化和

“韬定律”本质上是在先进制程受限的现实下,试图通过 DUV 多重曝光、架构优化和系统级协同,尽量逼近 EUV 先进制程的性能效果。

就是将一个不得不的被动 次优选择包装成 所谓技术进步和独立自主!试图用(不考虑量产和良率) 中低端的duv光刻机 成熟制成 通过多重曝光等技术来实现 高端的 euv 光刻机 先进制成