该来的终于还是来了！

阿斯麦大概没料到，被海外垄断多年的EUV光源，竟在中国工博会上被一家不到50人的小厂硬生生攻克。朗道燧岩带着90%国产化率的样机直接登场，把高端光刻机的“心脏”摆在了台面上。

这件事得从EUV光源到底是什么说起。7纳米及以下先进制程芯片的制造，离不开EUV光刻机，而EUV光源是光刻机的三大核心零部件之一。

没有这个光源，光刻机就是一堆废铁。长期以来，EUV光刻机及核心光源被海外技术垄断，出口也受管制，这是制约中国高端芯片自主可控的关键环节。

朗道燧岩这次展出的是一台极紫外光源系统样机，是目前公开可见的国产进度最靠前的EUV光源样机。

现场工作人员说，国产化率达到90%，绝大多数核心零部件是自主研发的，技术路线和国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。

从参数上看，低功率系统FlintNano LPP-OXXO的驱动激光功率1000W，激光频率1到20kHz，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时。

高功率的FlintMicro-LPP系列完成了原理论证，低功率系列已经进入产品化阶段。

这家公司2024年才成立，创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础。公司规模不到50人。

2025年10月拿到张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，累计超千万元，入驻上海集成电路设计产业园，之后陆续完成天使+轮和A轮，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等产业资本。

目前公司有三大业务板块：燧岩做EUV光源系统，辉光做大功率二氧化碳轴快流激光器，天算做等离子体仿真软件。

但样机归样机，距离真正能用还有一段路。现场工作人员坦言，距离量产还需要3到5年。核心难点在于提升输出功率和长期运行稳定性。

商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并在长时间运行中保持高度可靠。

阿斯麦的EUV光源系统2018年推出250W版本后实现批量生产，目前正向1000W演进。

朗道燧岩的样机目前验证了技术路线可行，但从15W级别的输出到数百瓦的量产要求，中间要跨越的不只是功率的倍数提升，还包括等离子体稳定性、光源寿命和系统集成可靠性的全面突破。

把这件事放到更大的背景里看，意义会更清楚。

阿斯麦几乎垄断EUV光刻机市场，深紫外光刻机市场份额也高达80%，这种垄断地位是三十年研发积累的结果，背后有蔡司、通快等欧洲供应商体系支撑。2019年以来，在美国压力下，荷兰停止向中国出口最先进的EUV和DUV光刻机。

限制的效果是双向的：一方面确实让中国拿不到尖端设备，另一方面也逼着中国自己走这条路。阿斯麦CEO富凯今年5月公开说过，进一步收紧限制只会加速中国自主研发替代设备的步伐。

他说阿斯麦卖到中国的DUV设备本身就是2015年的技术，对应八代之前的芯片。今年一季度中国从荷兰进口的光刻设备同比下降了24.3%，阿斯麦在中国市场的销售额占比也从去年的33%降到了20%。

朗道燧岩的出现，不代表中国EUV光刻机马上就能量产。一台EUV光刻机有上万零部件，光源只是其中一环，光学系统、双工件台、控制软件同样关键。

但光源恰恰是此前最难啃的骨头之一，因为涉及高功率CO2激光器、锡液滴靶材、等离子体控制等一系列底层技术。一家50人不到的创业公司能在两年多时间里做出可演示的样机，至少说明这条技术路线的可行性在中国团队手里得到了验证。

更值得关注的不是这一台样机本身，而是背后正在形成的能力链条。燧岩板块做光源，辉光板块做驱动激光器，天算板块做仿真软件，这三个东西拼在一起，覆盖了EUV光源从设计到验证的基本环节。

公司在招聘中写的方向包括真空系统、高压纳秒脉冲、光学精密机械、多物理场仿真，这些都是半导体装备制造的硬功夫。人培养出来，经验攒下来，即便这一代样机不完美，下一代、下下代就有了基础。

海外垄断了这么多年，靠的就是时间积累和供应链壁垒。打破这种局面，也不可能靠一两次展会上的亮相就完成。

但方向是对的。从没有样机到有样机，从全部进口到90%国产化，从零到一这一步走通了，后面的事情就有了参照。

阿斯麦的CEO自己都承认，限制只会加速替代。朗道燧岩在工博会上摆出来的那台机器，就是这句话最新的注脚。