印度首座大型半导体晶圆厂项目迎来重大调整。塔塔电子（Tata Electronics）与力积电（PSMC）合作建设的古吉拉特邦德霍莱拉晶圆厂，其商业化投产时间已由原计划的2026年底调整至2028年年中。同时，该工厂首期生产将优先采用90纳米（90nm）成熟工艺节点，而非此前规划的28纳米（28nm）节点。
据彭博社（Bloomberg）、《印度经济时报》等多家媒体报道，这一变动反映了印度在推进本土芯片制造落地过程中的技术路线调整。此前，塔塔集团控股公司塔塔之子（Tata Sons）在截至2025年3月的财年报告中曾明确表示，该晶圆厂将直接以28纳米作为起步工艺节点。
然而，印度电子和信息技术部长阿什维尼·瓦伊什纳乌（Ashwini Vaishnaw）最新证实，这座投资达107亿美元（约合9100亿印度卢比）、设计月产能5万片晶圆的工厂，预计要到2028年年中才能正式开启商业运营。
针对技术节点调整的报道，塔塔电子官方回应称，德霍莱拉晶圆厂的技术路线实际上规划了覆盖28纳米至110纳米的广泛工艺区间。公司一直以来制定的都是分阶段推进战略，首期引入55纳米与90纳米工艺节点有助于稳定早期产能，随后将稳步推进至28纳米，该节点依然是其未来产品组合中的核心组成部分。
合作方力积电发言人亦表示，双方的技术合作涵盖多个技术平台，半导体新厂建设从成熟节点切入是行业普遍采用的策略，这能最大程度保障新厂投产初期的工艺稳定与良率提升。
在应用领域方面，90纳米作为长周期成熟节点，主要服务于汽车电子、电源管理芯片（PMIC）、工业控制系统及微控制器（MCU）等需求量大且对稳定性要求极高的市场；而28纳米则是高性价比成熟节点，多用于智能手机组件、无线通信及消费电子产品。作为“印度半导体计划”（ISM）资助的核心项目，该工厂获得了印度政府高达资本支出50%的资金补贴支持，目前项目正按调整后的工程节点推进建设。