中微公司的创始人尹志尧博士表示，对国内的半导体设备产业充满信心，因为美国的设备工业都是华人干出来的，而这批华人大部分已经回国了。

美国在过去的三四十年里面开发的11种国际最先进的设备，包括刻蚀机，叫高能等离子体刻蚀机（CCP）、低能等离子体刻蚀机（ICP），还有在薄膜设备里面最重要的PECVD，就是等离子体加强的介质薄膜沉积，还有PVD，就是金属铜和其他金属靶材的沉积，就是物理溅射。再包括CMP（化学机械抛光）、电镀等两类设备。我们数下来大概11种最先进设备。

如果知道历史的话，几乎全部都是，或者说90%，都是中国留学生干出来的。或者是下面的经理，或者是分部的总经理，或者是事业群总经理，大概二三十个人。这些人从2004年我们回国以后开始，到现在几乎全部都回国了。

所以第一，我们应该看到美国的设备工业，华人起了最关键的作用，大部分的设备并不是美国人开发出来的。第二，这些人回国以后，使得中国的半导体设备行业最近20年发展非常快。

现在国内大概有不止三百多个半导体设备公司，有很多都是国外回来的人做领导，还有一部分国内的教授、研究所的人Spin-off出来，有一些年轻的人创业，非常热。我们已经覆盖了几乎百分之百的半导体设备，包括细分的设备，而美国最多做到百分之五六十。所以我对中国的设备产业充满信心。